Ионно-лучевая станция для финишной полировки и очистки твердых образцов Gentle Mill

Ионно-лучевая станция для финишной полировки и очистки твердых образцов Gentle Mill предназначена для проведения финишной полировки и очистки твердых образцов методом ионной полировки лучом высокой энергии.

Основные преимущества

• не вносит примесей и инородных включений
• не меняет структуры образцов
• образцы не претерпевают механических нагрузок

Станция имеет полностью компьютеризированное управление с простым и понятным интерфейсом, обеспечивающим ручное или программное обеспечение. Все параметры процесса могут быть записаны или запрограммированы с дальнейшим их воспроизводством. Это обеспечивает возможность автоматизации процесса программирования с минимальным вмешательством оператора.

Технические характеристики

• Энергия ионов: 100 - 2000 эВ (регулируемая)
• Плотность тока источника ионов: макс 10 мА/см2
• Ток пучка: 7 - 90 мкА (регулируемый)
• Диаметр пучка: 750 - 1200 мкм
• Скорость полировки: 28 мкм/ч (для Si при 2000 эВ)
• Угол наклона стола объектов: 0 - 45 (электрически управляемый с точностью 0,1 градуса)
• Используемый газ: аргон
• Управляемый клапан подачи газа с мониторингом давления
• Pheiffer – вакуумная система безмасляной откачки на базе диафрагменного и ТМН насосов
• Автоматизированный процесс откачки
• Встроенный промышленный компьютер
• Легкий в понимании графический интерфейс
• Контроль всех параметров
• Высокая степень автоматизации всего процесса полировки
• Программируемый и ручной режимы работы
• Потребляемая мощность: 220 - 240 В; 1,5 А / 50 Гц