Пн - Пт с 09:00 до 18:00 по МСК, без перерывов
Установка вакуумная SEO-EBV TEC предназначена для нанесения покрытия на оптические поверхности методом резистивного и электронно-лучевого испарения диэлектриков, полупроводников и металлов с одновременным контролем толщины покрытия.
Эксплуатация и конструкция
Установка обеспечивает возможность нанесения многослойных ахроматических покрытий на оптических деталях, а также металлических, однослойных просветляющих, интерференционных зеркальных, фильтрующих и других для различных областей спектра.
Установка состоит из: рабочей камеры, откачного поста на базе ТМН, форвакуумного агрегата, электрооборудования для питания и управления вакуумной системой и технологическими системами.
| 1 | Давление в камере, мм.рт.ст. | 5x10-6 |
| 2 | Время достижения вакуума, мин, не более | 20 |
| 3 | Температура нагрева в камере, С | 100 - 320 |
| 4 | Количество резистивных испарителей, шт. | 2 |
| 5 | Количество электронно-лучевых испарителей, шт. | 1 |
| 6 | Количество держателей подложек, шт. | 4 |
| 7 | Максимальный размер подложек, мм | 50 x 50 |
| 8 | Напряжение плазменной очистки, кВ | 7 |
| 9 | Ток резистивных испарителей, А, при 24 В | 150 |
| 10 | Ток электронно-лучевого испарителя, мА | 500 |
| 11 | Мощность, потребляемая установкой, кВт | 20 |
| 12 | Система управления | От промышленного компьютера |
